上海伯東美國 KRi 提供的離子源模塊化電源控制器, 可以操作各種離子, 等離子體和電子源, 用于在等離子體處理中, 輸出穩(wěn)定和可重復功率的動態(tài)負載. 可以在惡劣的環(huán)境中正常運轉, 易于系統(tǒng)集成.

離子源電源控制器由多個模組組成, 模組的特性取決于功率, 頻率, 電壓, 電流和控制方式, 大多數(shù)模組都滿足 CE 和 CoHS 標準.

連續(xù)性和穩(wěn)定性: 能夠在緊急情況下比如載入高能量的等離子體, 短路, 電流過沖, 電壓過沖和功率過沖的情況, 實現(xiàn)保護功能. 確保在運行沉積和刻蝕工藝時進行不間斷的操作. 通過數(shù)顯的面板, 可以即時觀測和控制工藝參數(shù)和狀態(tài)資訊.

KRi 模塊化電源包括但不限于以下產(chǎn)品:
無柵網(wǎng)霍爾電源
DC 直流電源集成中和器
RFICP 射頻電源

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現(xiàn)離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環(huán)境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.

上海伯東同時提供各類真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質量的真空系統(tǒng).

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上海伯東: 葉小姐                                                       臺灣伯東: 王小姐
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