美國 KRI 霍爾源控制器提供全自動控制器 Auto Controller, 燈絲控制器 Filament Controller, 陽極控制器 Discharge Controller, 運作時可以選擇全自動匹配 Auto Gas, 半自動匹配 Manual Gas 及全手動匹配 Gas Only 三種操作選項.

在全自動匹配模式下, 自動控制器依照客戶所設定的陽極電流 Vd 及陽極電壓 ID 自動調整氣體以維持工藝所需要的離子束能量. 全自動控制器可以記憶四組離子參數(shù), 工藝中更換參數(shù)組別時可以在離子束點火中直接切換參數(shù)組別, 不需重新熄火點燃離子束, 以達到穩(wěn)定的離子束狀態(tài).

離子源典型案例:
1. 設備: 1.3 米鍍膜機
2. 基材: 塑膠護目鏡
KRI 霍爾離子源控制器成功替代 Veeco Commonwealth 控制器

3. 離子源條件: Vb: 140V ( 離子束陽極電壓 ), Ib: 2.5A (離子束陽極電流), O2 gas: 9sccm (氧氣).
KRI 霍爾離子源控制器成功替代 Veeco Commonwealth 控制器

美國 KRi 霍爾離子源全自動匹配, 四組參數(shù)記憶, 可同時控制四種氣體流量的設計, 可以提供更方便的操作及獲得更穩(wěn)定的離子束. KRI 霍爾源控制器可以替換 Veeco Commonwealth 控制器！

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現(xiàn)離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環(huán)境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發(fā)展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.

上海伯東同時提供各類真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產品, 協(xié)助客戶生產研發(fā)高質量的真空系統(tǒng).

若您需要進一步的了解 KRi 離子源 詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式：
上海伯東: 葉小姐臺灣伯東: 王小姐
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