上海伯東代理美國 KRi 直流磁控濺射電源適用于各品牌磁控濺射鍍膜機, 低壓直流電源 0-1000 V, 穩定的控制磁控濺射陰極. 真正的電弧檢測和抑制. KRi 直流磁控濺射電源可以減少基材和目標的損壞, 增加沉積時間.
KRi 直流磁控濺射電源特點:
真正的電弧檢測和抑制: <100 nsec 電弧檢測
最小電弧能量:能量:<1mJ : 減少基材和目標的損壞, 減少粒子生成, 增加沉積時間
從 25 到 1500W 穩定的輸出功率
電壓, 電流和功率調節模式
可調運行定時器, 可調功率斜坡
配方存儲多達 7個單獨的目標
KWHr 計數器時間限制
緊湊設計: 僅需一個單元
0-1000V 和 0.4A 工作范圍: 滿額定功率可適用于大阻抗范圍
大阻抗范圍: 不需要在整個范圍內更換變壓器分接
可調電弧處理參數: 后電弧檢測延遲時間; 重新啟動前的電弧檢測輸出斷開時間
弧度計數器: 目標條件和工藝環境的指示
KRi 直流磁控濺射電源參數:
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產品 |
KRI 直流磁控濺射電源 1.5kW |
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型號 |
標準型 |
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輸入功率 |
50-60 Hz / singleФ/ 100-240 VAC |
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全功率阻抗范圍 |
1:7 (94-667 ohms) |
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最大 V/I |
1000V / 4A |
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點火 V |
1000V |
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輸出連接器 |
HN |
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認證 |
CE & NRTL |
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電弧抑制 |
是 |
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電弧能量 |
< 1mJ |
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弧度計數器 |
是 |
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尺寸: 高X寬X深 |
4.44 X 48.3 X 50 cm |
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重量 |
8.2 kg |
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遠程控制 |
analog & RS 232 |
提供三種規格滿足不同的濺射應用
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規格 |
最大 V/I |
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KRI 直流磁控濺射電源 1.5kW |
1000V, 4A |
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KRI 直流磁控濺射電源 1.0kW |
1000V, 3A |
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KRI 直流磁控濺射電源 0.5kW |
1000V ,2A |
KRi 直流磁控濺射電源典型應用
金屬磁控濺射, 反應膜層濺射
上海伯東美國 KRi 提供的離子源模塊化電源控制器, 可以操作各種離子, 等離子體和電子源, 用于在等離子體處理中, 輸出穩定和可重復功率的動態負載. 可以在惡劣的環境中正常運轉, 易于系統集成.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
