上海伯東美國 KRi 提供的離子源模塊化電源控制器, 可以操作各種離子, 等離子體和電子源, 用于在等離子體處理中, 輸出穩定和可重復功率的動態負載. 可以在惡劣的環境中正常運轉, 易于系統集成.

離子源電源控制器由多個模組組成, 模組的特性取決于功率, 頻率, 電壓, 電流和控制方式, 大多數模組都滿足 CE 和 CoHS 標準.

連續性和穩定性: 能夠在緊急情況下比如載入高能量的等離子體, 短路, 電流過沖, 電壓過沖和功率過沖的情況, 實現保護功能. 確保在運行沉積和刻蝕工藝時進行不間斷的操作. 通過數顯的面板, 可以即時觀測和控制工藝參數和狀態資訊.

KRi 模塊化電源包括但不限于以下產品:
無柵網霍爾電源
DC 直流電源集成中和器
RFICP 射頻電源

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.

上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.

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上海伯東: 葉小姐                                                       臺灣伯東: 王小姐
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