上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 適用于離子束濺射沉積 IBSD, 離子輔助沉積 IBAD 和離子束刻蝕 IBE. 在離子束濺射工藝中, KRi 射頻離子源 RFICP 140 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 標(biāo)準(zhǔn)型號的 RFICP 140 可以在離子能量為 100~1500 eV 范圍內(nèi)獲得很高的離子密度. 可以輸出最大 600 mA 離子流.
KRi 射頻離子源 RFICP 140 技術(shù)參數(shù):
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型號 |
RFICP 140 |
RFICP 140LO |
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陽極 |
電感耦合等離子體 |
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最大陽極功率 |
> 600W |
<600W |
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最大離子束流 |
> 500mA |
< 500mA |
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電壓范圍 |
100-1200V |
100-1200V |
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工藝氣體 |
惰性和反應(yīng)性氣體 |
惰性和反應(yīng)性氣體 |
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氣體流量 |
5-40sccm |
5-35sccm |
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壓力 |
< 0.5mTorr |
< 0.5mTorr |
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離子光學(xué)（自動對準(zhǔn)） |
OptiBeam™ |
OptiBeam™ |
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柵網(wǎng)材質(zhì) |
鉬, 石墨 |
鉬, 石墨 |
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離子束流形狀 |
平行,聚焦,散射 |
平行,聚焦,散射 |
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中和器 |
非浸入式 LFN, MHC |
非浸入式 LFN, MHC |
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尺寸 |
直徑9.7” (24.6cm); 高 9.9” (25.1cm) |
直徑9.7” (24.6cm); 高 9.9” (25.1cm) |
KRi 射頻離子源 RFICP 140 應(yīng)用領(lǐng)域：
預(yù)清洗
表面改性
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設(shè)備, 實現(xiàn)離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環(huán)境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關(guān)鍵尺寸的結(jié)構(gòu), KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.
上海伯東同時提供各類真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
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