上海伯東代理美國原裝進口 KRI 線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現更佳的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性離子源使用標準的端部霍爾模組并使設備的需求簡化, 一個低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉濺射系統.
霍爾離子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術參數
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型號 |
eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5 |
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供電 |
DC magnetic confinement |
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- 電壓 |
40-200V VDC |
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- 陽極結構 |
模塊化 |
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電源控制 |
eHL-30010A |
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配置 |
- |
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- 陰極中和器 |
Filamentless |
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- 離子束發散角度 |
> 45° (hwhm) |
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- 陽極 |
標準或 Grooved |
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- 底座 |
移動或快接法蘭 |
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- 高度 |
10 cm |
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寬度 |
10 cm |
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- 長度 |
~ 100cm |
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-工藝氣體 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others |
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Model |
eHL 200-3 |
eHL 200-5 |
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Height (nominal) |
2.9” (7.4cm) |
2.9” (7.4cm) |
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Width (nominal) |
3.3” (8.4cm) |
3.3” (8.4cm) |
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Length (nominal) |
Determined by number of modules & application |
Determined by number of modules & application |
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Cathode/Neutralizer |
Yes |
Yes |
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Anode module |
Yes |
Yes |
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Filamentless |
Yes |
Yes |
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Orientation |
Vertical / Horizontal |
Vertical / Horizontal |
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Process gases |
Inert, reactive, & organic |
Inert, reactive, & organic |
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Power controller |
eH Plasma Power Pack |
eH Plasma Power Pack |
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.
上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.
若您需要進一步的了解 KRi 離子源 詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式：
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