一般科研用鍍膜機(jī)的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達(dá)到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時(shí)需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)高真空度的需求, 所以對(duì)于生產(chǎn) OLED 鍍膜機(jī)的客戶(hù), 為了節(jié)省抽空時(shí)間和防止基片的污染, 會(huì)選擇在 LOADLOCK 與主腔間進(jìn)行快速傳樣, 由于兩腔室工作的真空度要求不同, 會(huì)在腔室之間增加高真空閥門(mén)來(lái)隔離系統(tǒng).
有時(shí)科研設(shè)備并不配置 LOADLOCK, 但出于泵組快速抽空或方便檢修要求, 還是會(huì)根據(jù)分子泵的進(jìn)氣口徑來(lái)配置高真空閥門(mén)隔離系統(tǒng). 上海伯東美國(guó) HVA 真空閥門(mén)已廣泛應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)

上圖是某 OLED 鍍膜機(jī)廠家配置上海伯東美國(guó) HVA 高真空閘閥 11000 系列, 我司根據(jù)鍍膜系統(tǒng)的自動(dòng)化要求, 配置 HVA 11000 系列尺寸以 4”, 6”, 8”閥門(mén)口徑為主的標(biāo)準(zhǔn)不銹鋼氣動(dòng)高真空閘閥,
上海伯東美國(guó) HVA 高真空閘閥 11000 系列產(chǎn)品
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閥門(mén)材質(zhì): |
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- 閥門(mén)主體 |
304 不銹鋼 |
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- 焊接波紋管軸封 |
AM - 350 |
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閥門(mén)密封方式 |
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- 高真空 |
氟橡膠 |
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- 超高真空 |
銅墊圈 / 氟橡膠 |
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真空: |
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- 壓力范圍 |
高真空 1x10-9 mbar, 超高真空 1x10-10 mbar |
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- 漏率 |
< 2x10-9 mbar l/S |
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- 差壓關(guān)閉 |
1 bar ( 任意位置 ) |
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- 開(kāi)啟前最大壓力 |
≤ 30 mbar |
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烘烤溫度(不含電磁閥): |
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- 佛橡膠密封 |
150 °c, 可選配置最大 250 °c |
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- 銅墊圈密封 |
閥門(mén)關(guān)閉 200 °c, 閥門(mén)打開(kāi) 150 °c |
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- 驅(qū)動(dòng)方式 |
手動(dòng) 60 °c, 氣動(dòng) 60 °c |
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- 氣體 |
80 psig (5.5 bar) |
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- 電磁 |
4.0 Watts |
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- 供電 |
120 VAC 50 /60 Hz |
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- 可選電壓 |
24, 200, 240 VAC 50/60 Hz |
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- 位置指示器,最大 |
115 VAC |
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使用壽命: 100,000 啟閉次數(shù) (具體視實(shí)際使用情況決定) |
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公稱(chēng)通徑: DN 16 - 800 mm |
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上海伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!
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