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上海伯東射頻離子源客戶案例: 國內某 LED 制造商
1. 離子源應用: LED-DBR 鍍膜生產
2. 系統功能: 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 采用美國 KRI 射頻離子源 RFICP 325. 離子源 RFICP 325 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業界較高等級, 離子源 RFICP 325 特殊的柵極設計 E22 Grided 可以涵蓋 1650 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 substrate holder, 無論是生產良率或是均勻性都可達到更高生產效能.
4. 離子源功能: 通過射頻離子源 RFICP 325 實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean 功能后, 所生產出的 LED-DBR 無論是亮度測試, 脫膜測試, 頂針測試, 光學特性等等… 都優于目前一般業界蒸鍍機所搭配的離子源.

上海伯東射頻離子源安裝案例: KRI RFICP 325 射頻離子源安裝于 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.

KRI 射頻離子源測試案例: LED-DBR 脫膜測試.
1. 在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試
美國 KRi 射頻離子源

2. 測試結果

--------- 使用其他品牌離子源--- --------------------- 使用美國考夫曼 KRI RFICP 325 離子源 ----------------------

從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國考夫曼離子源, 樣品無崩邊

上海伯東美國射頻離子源 KRI RFICP 325 優點:
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質
模塊化設計, 保養快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學膜后折射率
全自動控制設計, 操作簡易
低耗材成本, 安裝簡易

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.

上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.

若您需要進一步的了解 KRi 離子源 詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式：
上海伯東: 葉小姐臺灣伯東: 王小姐
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同號 ) M: +886-939-653-958

現部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯絡上海伯東葉小姐 1391-883-7267
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