KRi 霍爾離子源在不規則電子晶片蒸鍍中的作用
設備: 進口蒸發鍍膜機, 加裝離子源
離子源型號: KRi 霍爾離子源 EH 400
預清潔應用: 通過離子 Ar 轟擊晶片表面, 去除物理或化學吸附的污染物, 清潔后在進行蒸鍍, 膜層厚度均勻性及附著牢固度都明顯提高.
去除物理吸附污染: 去除晶片表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳氫化合物殘留
去除化學吸附污染: 去除天然和粘合材料. 如表面氧化物, 通常去除 < 100Å
KRi 霍爾離子源 EH 400

美國 KRi 霍爾離子源 eH 400 特性
高離子束電流滿足沉積率的臨界到達比
低離子能量通過避免高能離子對表面和界面的轟擊損傷而使產量更大化
寬束, 發散離子束通過均勻地覆蓋沉積區從而增加每次加工零件數量來提高吞吐量
堅固耐用的模塊化結構降低了備件耗材和維護時間, 減少維護成本和停機時間
無柵網, 緊湊設計, 方便加裝, 提供離子輔助功能

KRi 霍爾離子源 eH 400 技術參數:

型號	eH 400
陽極	DC
陽極電流(最大)	5A
離子束流(最大)	>750mA
陽極電壓范圍	40-300V
離子能量范圍	25-300eV
陽極功率(最大)	500W (輻射冷卻)
氣體	惰性氣體和反應氣體
氣體流量	3-30 sccm
壓力	< 1 x 10^-3 Torr
離子束流直徑	4cm Φ
離子束發散角度	> 45° (hwhm)
陰極中和器	沉浸式或非沉浸式
高度	3.0” (7.62cm)
直徑	3.7” (9.4cm)

上海伯東代理美國 KRi 離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發系統, PLD 脈沖激光系統等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面有機物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等！

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.

上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.

若您需要進一步的了解 KRi 離子源 詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式：
上海伯東: 葉小姐臺灣伯東: 王小姐
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同號 ) M: +886-939-653-958

現部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯絡上海伯東葉小姐 1391-883-7267
上海伯東版權所有, 翻拷必究！