KRi 霍爾離子源 EH 2000 望遠鏡鏡片鍍膜
設備: 電子束鍍膜機
應用: 光學鍍膜, 300 mm 望遠鏡鏡片鍍金 Au, 最外層鍍一層二氧化硅 SiO2, 做為保護膜, 黃金對于紅外波段有著極高的反射率, 增強鏡面的紅外線反射能力.

工藝過程: IBAD 輔助鍍膜, 通過使用美國 KRi 霍爾離子源可以實現增強和控制薄膜性能, 薄膜致密化的改進, 控制薄膜化學計量, 提高折射率, 降低薄膜應力, 控制薄膜微觀結構和方向, 提高薄膜溫度和環境穩定性, 增加薄膜附著力, 激活表面,平滑的薄膜界面和表面,降低薄膜吸收和散射,增加硬度和耐磨性.

KRi 霍爾離子源 EH 2000 特點

高電流低能量寬束型離子束
燈絲壽命更長
更長的運行時間
更清潔的薄膜
燈絲安裝在離子源側面
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A 或 15A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

美國 KRi 霍爾離子源EH

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.

上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.

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