.jpg)
|
型號 |
RFICP 220 |
RFICP 380 |
|
Discharge 陽極 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
|
離子束流 |
>800 mA |
>1500 mA |
|
離子動能 |
100-1200 V |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
20 cm Φ |
38 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
|
流量 |
10-40 sccm |
5-50 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
|
長度 |
30 cm |
39 cm |
|
直徑 |
41 cm |
59 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
|
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.
上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.
若您需要進一步的了解 KRi 離子源 詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式：
上海伯東: 葉小姐 臺灣伯東: 王小姐
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同號 ) M: +886-939-653-958
現部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯絡上海伯東 葉小姐 1391-883-7267
上海伯東版權所有, 翻拷必究！
KRi 射頻離子源應用于 12英寸和8英寸金屬蝕刻機中
上海伯東版權所有, 翻拷必究！
