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手機鏡頭等上游供應商在生產工藝中通常使用離子源進行輔助沉積, 由此改善由手機攝像頭內樹脂鏡片非有效徑區域透光跟反射光線形成的 flare 現象, 提高手機攝像頭的成像質量, 提升鏡頭競爭力. 在鍍膜過程中, 同時需要解決諸如脫膜, 光譜的不穩定, 均勻性不佳及無法在大型蒸鍍機穩定的大量生產等問題.

上海伯東美國 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380, 利用高均勻性的離子分布及高穩定的離子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸鍍設備, 解決了在樹脂基材鏡頭上無法達到高質量鍍膜要求的問題, 同時也提升了企業生產效能.

客戶原使用國產傳統燈絲型離子源 (霍爾離子源), 因離子源高溫, 發熱, 易造成樹脂融化, 產生磨砂物質,導致表面污染, 對材料本身造成結構性破壞; 傳統燈絲型霍爾離子源每天需要更換燈絲, 保養時間長, 對生產效率有一定的影響. 經過推薦客戶改裝美國原裝進口 KRi 大尺寸射頻離子源, 提高折射率, 增加樹脂鏡片表面的膜層致密度, 增加膜強度, 整體上提升了鍍膜效果！
鍍膜材料: 高折射率材料 Ti2O5 (氧化鈦), 低折射率材料 SiO2 (氧化硅）
應用: 樹脂鏡片鍍 AR 增透膜（減反膜）
鍍膜設備: 1米7 的大型蒸鍍設備, 配置美國 KRi 射頻離子源 RFICP 380
測試環境: 80C / 80% 濕度, 85C / 95% 濕度, 連續 1,500 小時高溫高濕嚴苛環境測試

KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380

上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
KRI RFICP 射頻離子源

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.

上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.
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