型號
KDC 40
陽極
DC 直流
陽極功率
100W
最大離子束流
>100mA
電壓
100-1200V
氣體
惰性和反應氣體
進氣流量
2-10sccm
壓力
<0.5m Torr
離子光學(自對準)
OptiBeamTM
離子束直徑
4cm Φ max
柵極
鉬和石墨
離子束形狀
聚焦, 平行, 散射
高度
16cm
直徑
9cm
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型號 |
KDC 40 |
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陽極 |
DC 直流 |
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陽極功率 |
100W |
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最大離子束流 |
>100mA |
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電壓 |
100-1200V |
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氣體 |
惰性和反應氣體 |
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進氣流量 |
2-10sccm |
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壓力 |
<0.5m Torr |
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離子光學(自對準) |
OptiBeamTM |
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離子束直徑 |
4cm Φ max |
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柵極 |
鉬和石墨 |
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離子束形狀 |
聚焦, 平行, 散射 |
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高度 |
16cm |
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直徑 |
9cm |
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.
上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.
若您需要進一步的了解 KRi 離子源 詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式：
上海伯東: 葉小姐 臺灣伯東: 王小姐
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M: +86 1391-883-7267 ( 微信同號 ) M: +886-939-653-958
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現部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯絡上海伯東 葉小姐 1391-883-7267
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KRi 考夫曼離子源 KDC 40 應用于 IBE 刻蝕 + E-beam 高真空雙腔系統
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