KRI 考夫曼霍爾離子源 controller 自動化控制及聯機自動化設計，提供使用者在操作上更是便利。

KRI 考夫曼霍爾離子源 Gun body 模塊化之設計、提供使用者在于基本保養中能夠降低成本及便利性。

伯東公司客戶 1400 mm 蒸鍍鍍膜機安裝 KRI考夫曼霍爾離子源 EH1020 F，應用于塑料光學鍍膜。

KRI 霍爾離子源

KRI 霍爾離子源 EH1020

KRI 考夫曼霍爾離子源 EH1020 主要參數:

Filament Controller	Discharge controller	Gas controller
17.2A/ 22V	150V/ 4.85A	Ar/ 32sccm

KRI 霍爾離子源

利用 KRI 考夫曼霍爾離子源輔助鍍膜及無離子源輔助鍍膜對鍍膜質量之比較：

	KRI EH1020 輔助鍍膜	無 Ion Source 輔助鍍膜
鹽水煮沸脫膜測試	優	劣
破壞性百格脫膜測試	優	劣
光學折射設率	高	低
膜層致密性	優	劣
膜層光學吸收率	無	有
制程腔體加熱溫度	低	高
生產成本	低	高

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.

上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.

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