射頻離子源塑膠光學鏡頭鍍膜客戶案例:
鍍膜材料: 高折射率材料 Ti2O5 (氧化鈦）
低折射率材料 SiO2 (氧化硅）
應用: 塑膠光學鍍膜
鍍膜設備: 1米7 的大型蒸鍍設備, 配置美國 KRI 射頻離子源 RFICP 325
測試環境: 80C / 80% 濕度, 85C / 95% 濕度, 連續 1,500 小時高溫高濕嚴苛環境測試
1米7 的大型蒸鍍設備 射頻離子源 RFICP 325 離子源自動控制器
多數的光學鏡頭制造公司極力轉型于塑膠基材的光學鏡頭組件以爭取智能型手機鏡頭, 車用鏡頭, VR 虛擬現實鏡頭等等市場. 但都面對了在鍍膜時制程問題, 例如: 脫膜, 光譜的不穩定, 均勻性不佳及無法在大型蒸鍍機穩定的大量生產等問題. 伯東公司與美國 KRI 考夫曼離子源合作開發此款射頻源 RFICP 325, 利用高均勻性的離子分布及高穩定的離子能量搭配于 1米7 的大型蒸鍍設備, 此突破性的搭配解決了在塑膠基材鏡頭上無法達到高質量鍍膜要求的問題, 同時也提升了企業生產效能.
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.
上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.
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KRI 射頻離子源 RFICP 325 應用于塑膠光學鏡頭鍍膜
