尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
可通氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2,
離子束發散角度：> 45° (hwhm)
水冷
|
|
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6” |
類似應用: 汽車頭燈模塊鍍全反射膜, 使發光源的光全部反射出去照亮
美國 KRi 霍爾離子源憑借高密度的離子濃度, 廣角度涵蓋面積的離子束, 可控制離子的強度及濃度, 已廣泛應用于離子輔助鍍膜 IBAD , 獲得高質量的膜層. 上海伯東美國 KRi 霍爾源可依客戶鍍膜機尺寸, 基材尺寸及工藝條件選擇對應型號: EH 400, EH 1000, EH 2000, EH 3000.
上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝. 在真空環境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關鍵尺寸的結構, KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國KRi考夫曼離子源中國總代理.
上海伯東同時提供各類真空系統所需的渦輪分子泵, 真空規, 高真空插板閥等產品, 協助客戶生產研發高質量的真空系統.
若您需要進一步的了解 KRi 離子源 詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式：
上海伯東: 葉小姐 臺灣伯東: 王小姐
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同號 ) M: +886-939-653-958
現部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯絡上海伯東 葉小姐 1391-883-7267
上海伯東版權所有, 翻拷必究！
上海伯東版權所有, 翻拷必究！
