光學鍍膜中離子源作用
通過使用上海伯東美國 KRi 離子源可實現基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密, 膜基附著力更好, 膜層不易脫落. 其中射頻離子源提供高能量, 低濃度的離子束, 離子源單次工藝時間更長, 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜工藝. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
光學鍍膜中離子源作用
通過使用上海伯東美國 KRi 離子源可實現基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密, 膜基附著力更好, 膜層不易脫落. 其中射頻離子源提供高能量, 低濃度的離子束, 離子源單次工藝時間更長, 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜工藝. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
上海伯東 KRi 射頻離子源 RFICP 參數:
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型號 |
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Discharge 陽極 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
RF 射頻 |
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離子束流 |
>100 mA |
>350 mA |
>600 mA |
>800 mA |
>1500 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
4 cm Φ |
10 cm Φ |
14 cm Φ |
22 cm Φ |
38 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
3-10 sccm |
5-30 sccm |
5-30 sccm |
10-40 sccm |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
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長度 |
12.7 cm |
23.5 cm |
24.6 cm |
30 cm |
39 cm |
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直徑 |
13.5 cm |
19.1 cm |
24.6 cm |
41 cm |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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光學鍍膜中真空系統
不論是蒸發鍍膜還是濺射鍍膜, 上海伯東提供滿足各種鍍膜工藝的德國 Pfeiffer 真空泵, 比如分子泵, 旋片泵, 螺桿泵及整套泵站, 同時提供用于真空測量的真空規和用于鍍膜設備腔體密封性泄露檢測的氦質譜檢漏儀, 以保證鍍膜工藝穩定性.
推薦大抽速分子泵參數
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型號 |
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進氣口 |
DN 200 ISO-K |
DN 250 ISO-K |
DN 200 ISO-K |
DN 250 ISO-K |
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氮氣抽速 l/s |
1250 |
1400 |
1450 |
1900 |
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最大極限真空度 hPa |
< 1X10-7 |
< 1X10-7 |
< 1X10-7 |
< 1X10-7 |
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電壓 V AC |
100-120 |
100-120 |
100-120 |
100-120 |
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氮氣壓縮比 |
> 1X108 |
> 1X108 |
> 1X108 |
> 1X108 |
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轉速 RPM |
37800 |
37800 |
31500 |
31500 |
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最大預抽真空 hPa |
2 |
2 |
1.8 |
1.8 |
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上海伯東版權所有, 翻拷必究！
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