上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)針對(duì)鈮酸鋰 LiNbO3 薄膜刻蝕優(yōu)勢(shì)
1. 滿足刻蝕的線條寬度要求
2. 滿足刻蝕準(zhǔn)直度要求
3. 可以實(shí)現(xiàn) ICP 和 RIE 無(wú)法進(jìn)行的刻蝕
鈮酸鋰 LiNbO3 薄膜 IBE 離子束刻蝕

上海伯東日本原裝設(shè)計(jì)制造離子束刻蝕機(jī) IBE 提供 4英寸, 6英寸, 8英寸干法, 納米級(jí)別材料的表面刻蝕, 刻蝕均勻性 ≤±5% (部分材料 3%). 幾乎滿足所有材料的刻蝕. 例如磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 廣泛應(yīng)用于 RF 射頻器件, MEMS 傳感器, 磁性器件 …, 滿足研發(fā)和量產(chǎn)需要.

鈮酸鋰 LiNbO3 薄膜 IBE 離子束刻蝕

上海伯東離子束刻蝕機(jī) IBE 特點(diǎn)
1. 干法刻蝕, 物理蝕刻, 納米級(jí)別的刻蝕精度
2. 離子束角度可以±90°任意調(diào)整, 蝕刻可以根據(jù)需要做垂直, 斜面等等加工形狀
3. 行星旋轉(zhuǎn)載臺(tái), 優(yōu)異的刻蝕均勻性, 刻蝕均勻性 ≤±5% (部分材料 3%),
4. 直接冷卻載臺(tái), 循環(huán)水冷, 晶圓載臺(tái)冷卻性能優(yōu)異
5. 間接冷卻載臺(tái), 間接冷卻設(shè)計(jì)的干式吸盤載臺(tái)易于設(shè)計(jì)載臺(tái)尺寸和數(shù)量
6. 設(shè)計(jì)靈活, 系統(tǒng)設(shè)計(jì)上盡可能滿足客戶的具體要求, 提供定制的離子束刻蝕機(jī)
7. 真空系統(tǒng)可選德國(guó) Pfeiffer 分子泵和旋片泵
8. 干式載臺(tái)設(shè)計(jì), 摻入金屬粉末的干式橡膠卡盤確保了良好的導(dǎo)熱性和晶圓附著穩(wěn)定性

上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)可根據(jù)客戶的要求進(jìn)行定制. 離子束刻蝕作為干法蝕刻工藝中的微細(xì)加工被廣泛應(yīng)用. 由于是不伴隨化學(xué)反應(yīng)的物理蝕刻工藝, 因此不僅適用于Au, Pt, 磁性材料等難蝕刻材料的加工, 也適用于由多個(gè)金屬膜形成的多層膜蝕刻工藝. 伯東公司超過(guò) 50年的離子刻蝕市場(chǎng)經(jīng)驗(yàn), 擁有龐大的安裝基礎(chǔ)和經(jīng)過(guò)市場(chǎng)驗(yàn)證的刻蝕技術(shù)!

自 1970年至今, Hakuto 伯東已累計(jì)交付約 500套IBE離子束刻蝕機(jī). 刻蝕機(jī)可配置德國(guó) Pfeiffer 渦輪分子泵.上海伯東也是美國(guó) KRi 離子源中國(guó)總代理, KRi 離子源適用于各類真空設(shè)備, 實(shí)現(xiàn)離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝.

若您需要進(jìn)一步的了解 NS 離子束刻蝕機(jī)詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式：
上海伯東: 葉小姐臺(tái)灣伯東: 王小姐
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同號(hào) ) T: +886-3-567-9508 ext 161
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上海伯東版權(quán)所有, 翻拷必究！

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