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離子束刻蝕機 10 IBE
小型離子蝕刻機, 適用于科研院所, 節省空間
配置 10cm 考夫曼離子源
樣品數量尺寸: φ2" 或 φ4" 或 φ6" 或 φ8"x 1枚 (可根據器件大小定制載臺)
提供實驗用小型樣品適配器
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離子束刻蝕機 20 IBE-C
中等規模實驗室研究的離子束刻蝕機
配置 20cm 考夫曼離子源
樣品數量尺寸: φ3 X 8枚, φ4 X 6枚, φ8 X 1枚(可根據器件大小定制載臺)
配置公轉自轉傳輸機構 ”Dry Chuck Planet ”, 使得樣品可以得到比較均勻平滑的表面. 刻蝕均勻性 ≤±5%
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離子束刻蝕機 20 IBE-J
適用于批量處理的大型科研離子束刻蝕機
配置 20cm 考夫曼離子源
樣品數量尺寸: φ4 X 12枚, φ6 X 8枚(可根據器件大小定制載臺)
配置公轉自轉傳輸機構 ”Dry Chuck Planet ”, 使得樣品可以得到比較均勻平滑的表面. 刻蝕均勻性 ≤±5%
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