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應(yīng)用 |
襯底材料 |
刻蝕材料 |
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薄膜襯底 (Submounts) |
Al2O3 |
Ti / Pt / Au |
電極 Electrode |
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TaN |
電阻材料 |
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薄膜組件 |
Al2O3 |
Ti / Pt / Au |
電極 Electrode |
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應(yīng)變傳感器 |
Glass |
NiCr |
電阻材料 |
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紅外傳感器 |
GaAs, GaN |
Au, Pt, +α |
電極 Electrode |
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磁傳感器 |
Glass, Al2O3 |
Cu |
線圈 Coil |
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Ni-Mo |
磁層 Magnetic Layer |
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Au |
電極 Electrode |
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射頻線圈 |
Al2O3 |
Cu |
線圈 Coil |
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TaN |
Resistance Element |
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射頻器件 |
SiC |
Au |
電極 Electrode |
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鉑薄膜熱傳感器 |
Al2O3 |
Pt |
電阻材料 |
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LD, LED |
GaN |
GaN |
LD |
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GaAs |
Ti / Pt / Au +α |
電極 Electrode |
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Si |
Ti / Mo / Ti / Au |
電極 Electrode |
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LN 調(diào)制器 |
LN(LiNbO3) |
LiNbO3 /SiOx |
光波導(dǎo) |
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MEMS |
Si, LN, LT |
LN etc.. |
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硅光臺 |
Si |
Ti / Pt / Au |
電極 Electrode |
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氣體傳感器 |
Si |
Ta2O5, Pt |
電極 Electrode |
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薄膜組件 |
AlN |
Ti / Pt / Au |
電極 Electrode |
上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)可根據(jù)客戶的要求進(jìn)行定制. 離子束刻蝕作為干法蝕刻工藝中的微細(xì)加工被廣泛應(yīng)用. 由于是不伴隨化學(xué)反應(yīng)的物理蝕刻工藝, 因此不僅適用于Au, Pt, 磁性材料等難蝕刻材料的加工, 也適用于由多個(gè)金屬膜形成的多層膜蝕刻工藝. 伯東公司超過 50年的離子刻蝕市場經(jīng)驗(yàn), 擁有龐大的安裝基礎(chǔ)和經(jīng)過市場驗(yàn)證的刻蝕技術(shù)!
自 1970年至今, Hakuto 伯東已累計(jì)交付約 500套IBE離子束刻蝕機(jī). 刻蝕機(jī)可配置德國 Pfeiffer 渦輪分子泵.上海伯東也是美國 KRi 離子源中國總代理, KRi 離子源適用于各類真空設(shè)備, 實(shí)現(xiàn)離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝.
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上海伯東版權(quán)所有, 翻拷必究！
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