IBE 離子束刻蝕機

IBE 離子束刻蝕機主要研發應用
光柵刻蝕: 閃耀光柵, 斜齒光柵, 平行光柵等刻蝕 ( VR, AR 光學鏡片組件)
薄膜刻蝕: Pt, Au 涂層為主的功率器件
硅光刻蝕
MEMS 傳感器刻蝕
自旋電子研究

上海伯東 IBE 離子束刻蝕機典型客戶應用案例

應用

襯底材料

刻蝕材料

薄膜襯底
Thin Film Substrate

(Submounts)

Al2O3

Ti / Pt / Au

電極 Electrode

TaN

電阻材料
Resistance Element

薄膜組件
Thin Film Submounts

Al2O3

Ti / Pt / Au

電極 Electrode

應變傳感器
Strain Sensor

Glass

NiCr

電阻材料
Resistance Element

紅外傳感器
Infrared Sensor

GaAs, GaN

Au, Pt, +α

電極 Electrode

磁傳感器
Magnetic Sensor (TMF Sensor)

 

Glass, Al2O3

Cu

線圈 Coil

Ni-Mo

磁層 Magnetic Layer

Au

電極 Electrode

射頻線圈
RF Coil

Al2O3

Cu

線圈 Coil

TaN

Resistance Element

射頻器件
RF device

SiC

Au

電極 Electrode

鉑薄膜熱傳感器
Pt Thin Film Thermal Sensor

Al2O3

Pt

電阻材料
Resistance Element

 

LD, LED

GaN

GaN

LD

GaAs

Ti / Pt / Au +α

電極 Electrode

Si

Ti / Mo / Ti / Au

電極 Electrode

LN 調制器
LN Modulator

LN(LiNbO3)

LiNbO3 /SiOx

光波導
Optical Waveguide

MEMS

Si, LN, LT

LN etc..

 

硅光臺
Si optical bench

Si

Ti / Pt / Au

電極 Electrode

氣體傳感器
Gas Sensor

Si

Ta2O5, Pt

電極 Electrode

薄膜組件
Thin Film Submounts

AlN

Ti / Pt / Au

電極 Electrode

IBE 離子束刻蝕機


IBE 離子束刻蝕機

 

上海伯東 IBE 離子束刻蝕機可根據客戶的要求進行定制. 離子束刻蝕作為干法蝕刻工藝中的微細加工被廣泛應用. 由于是不伴隨化學反應的物理蝕刻工藝, 因此不僅適用于Au, Pt, 磁性材料等難蝕刻材料的加工, 也適用于由多個金屬膜形成的多層膜蝕刻工藝. 伯東公司超過 50年的離子刻蝕市場經驗, 擁有龐大的安裝基礎和經過市場驗證的刻蝕技術!

自 1970年至今, Hakuto 伯東已累計交付約 500套IBE離子束刻蝕機. 刻蝕機可配置德國 Pfeiffer 渦輪分子泵.上海伯東也是美國 KRi 離子源中國總代理, KRi 離子源適用于各類真空設備, 實現離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝.

若您需要進一步的了解 NS離子束刻蝕機詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 葉小姐                                                  臺灣伯東: 王小姐
M: +86 1391-883-7267 ( 微信同號 )               M: +886-939-653-958

現部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯絡上海伯東 葉小姐 1391-883-7267
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更新 : 2026-01-14

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