上海伯東渦輪分子泵應用于磁控濺射鍍膜機客戶案例: 某研究所磁控濺射系統用于光刻膠片上濺金屬鉻, 銅, 鈦. 其中材料生長腔工作真空度要求 < 10-7 hPa, 能做到4英寸片, 3靶位, 可實現編程鍍膜. 材料生長腔對渦輪分子泵的要求較高, 經過伯東推薦加裝普發 Pfeiffer 分子泵 HiPace 700.
分子泵應用于磁控濺射系統

超高真空系統配置:

	渦輪分子泵 HiPace 700 接口: DN 160 CF-F 極限真空: < 5X10-10 mbar 氮氣壓縮比: > 1X1011
	全量程真空規 PKR 251 接口: DN40 CF-F 測量范圍: 5E-9至 1000 hpa
	HVA 超過真空閘閥 11000 口徑: DN 100 CF-F 極限真空: 1x10^-10mbar 手動操作

上海伯東銷售維修 Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 系列憑借緊湊結構和卓越性能, 適用于高真空和超高真空應用.HiPace 渦輪分子泵采用混合或磁懸浮軸承系統, 確保低噪音和低振動運行. 此外, 渦輪分子泵 HiPace 還提供特殊型號, 包括針對氫氣等輕質氣體壓縮的版本, 以及配備耐腐蝕涂層的型號. 這些豐富的專用版本選擇, 使 Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 為涂層, 半導體制造和分析應用提供更優的解決方案.

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