科研定制 PLD 系統配置:
分子泵 HiPace 80 *8
薄膜真空規 CMR 361 *3
真空規 TPR 280 *1
Pfeiffer 普發分子泵 HiPace 80 應用于 PLD 脈沖激光沉積設備

伯東 Pfeifer 分子泵 HiPace 80 主要參數和抽氣性能

型號	HiPace 80
進氣口	DN 63 CF-F
極限真空 hPa	< 5X10^-10
氮氣的壓縮比	> 1X10¹¹
氮氣的抽氣速度 l/s	67
工作電壓: V DC	24 (± 5 %)
氮氣的前級真空最大值 hPa	22
重量 kg	3.8
噪音 dB(A)	≤48

pfeiffer 普發分子泵 HiPace80

上海伯東德國 Pfeiffer 渦輪分子泵適用于
分析儀器: 電子顯微鏡, 檢漏, 小型質譜, 表面分析, 殘余氣體分析
半導體: PVD, inspection, bonding, MBE, load-locks
工業: 醫學技術, 工業檢漏, 隔離真空, 燈管制造
研發: 核研究, 等離子研究, 粒子加速器, 冷凍研究, 納米技術, 生物技術

上海伯東銷售維修 Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 系列憑借緊湊結構和卓越性能, 適用于高真空和超高真空應用.HiPace 渦輪分子泵采用混合或磁懸浮軸承系統, 確保低噪音和低振動運行. 此外, 渦輪分子泵 HiPace 還提供特殊型號, 包括針對氫氣等輕質氣體壓縮的版本, 以及配備耐腐蝕涂層的型號. 這些豐富的專用版本選擇, 使 Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 為涂層, 半導體制造和分析應用提供更優的解決方案.

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