定制 IBE 離子束刻蝕機(jī), 真空系統(tǒng)條件
圓柱型真空室 *1: φ406mm, 長度 400mm, 材料 SUS 304

真空系統(tǒng)主要配置
上海伯東德國 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 700. 對氮?dú)獬樗倏蛇_(dá)到 685 l/s, 緊湊設(shè)計(jì), 低能耗的同時(shí)保證更高抽吸能力, 占地面積小, 任意位置安裝. 適用于工業(yè)環(huán)境-保護(hù)等級 IP 54, 通過半導(dǎo)體 S2, UL / CSA 認(rèn)證.

型號	類型	氮?dú)獬樗?l/s	極限真空 hPa
HiPace 700 DN 160 ISO-F	復(fù)合軸承渦輪分子泵	685	＜1x10^-7

真空測量

型號	類型	測量范圍 hPa	精度
TPR 280	皮拉尼真空規(guī)	1X10^-4至 1X10³	15 % (1X10^-3hPa 至 1X 10² hPa)
PBR 360	熱陰極真空規(guī)	5X10^-10 至 1000	± 10 % 至 ± 30 %

在試驗(yàn)條件下 (試驗(yàn)臺上沒有安裝基材和橡膠) 測試后, IBE 真空系統(tǒng)滿足下述要求.
腔室極限真空 8X10^-7 hPa
蝕刻工作壓力 3X10^-⁴ hPa
45分鐘內(nèi)達(dá)到 1X10^-5hPa
24小時(shí)內(nèi)的極限真空 8X10^-7 hPa

IBE 離子束刻蝕機(jī)是一種干法工藝中的微加工設(shè)備, 適用于薄膜磁頭, 復(fù)合半導(dǎo)體, SAW 器件等的生產(chǎn)和研發(fā). 尤其適用于磁性材料, 金, 鉑及各類合金等的銑削加工. 上海伯東提供按需定制的整套刻蝕設(shè)備, 也提供適用于離子束刻蝕機(jī)的渦輪分子泵, 真空規(guī), 離子源等產(chǎn)品.

上海伯東銷售維修 Pfeiffer 普發(fā)渦輪分子泵 HiPace 系列憑借緊湊結(jié)構(gòu)和卓越性能, 適用于高真空和超高真空應(yīng)用.HiPace 渦輪分子泵采用混合或磁懸浮軸承系統(tǒng), 確保低噪音和低振動(dòng)運(yùn)行. 此外, 渦輪分子泵 HiPace 還提供特殊型號, 包括針對氫氣等輕質(zhì)氣體壓縮的版本, 以及配備耐腐蝕涂層的型號. 這些豐富的專用版本選擇, 使 Pfeiffer 普發(fā)渦輪分子泵 HiPace 為涂層, 半導(dǎo)體制造和分析應(yīng)用提供更優(yōu)的解決方案.

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