定制 IBE 離子束刻蝕機, 真空系統條件
圓柱型真空室 *1: φ406mm, 長度 400mm, 材料 SUS 304

真空系統主要配置
上海伯東德國 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 700. 對氮氣抽速可達到 685 l/s, 緊湊設計, 低能耗的同時保證更高抽吸能力, 占地面積小, 任意位置安裝. 適用于工業環境-保護等級 IP 54, 通過半導體 S2, UL / CSA 認證.

型號	類型	氮氣抽速 l/s	極限真空 hPa
HiPace 700 DN 160 ISO-F	復合軸承渦輪分子泵	685	＜1x10^-7

真空測量

型號	類型	測量范圍 hPa	精度
TPR 280	皮拉尼真空規	1X10^-4至 1X10³	15 % (1X10^-3hPa 至 1X 10² hPa)
PBR 360	熱陰極真空規	5X10^-10 至 1000	± 10 % 至 ± 30 %

在試驗條件下 (試驗臺上沒有安裝基材和橡膠) 測試后, IBE 真空系統滿足下述要求.
腔室極限真空 8X10^-7 hPa
蝕刻工作壓力 3X10^-⁴ hPa
45分鐘內達到 1X10^-5hPa
24小時內的極限真空 8X10^-7 hPa

IBE 離子束刻蝕機是一種干法工藝中的微加工設備, 適用于薄膜磁頭, 復合半導體, SAW 器件等的生產和研發. 尤其適用于磁性材料, 金, 鉑及各類合金等的銑削加工. 上海伯東提供按需定制的整套刻蝕設備, 也提供適用于離子束刻蝕機的渦輪分子泵, 真空規, 離子源等產品.

上海伯東銷售維修 Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 系列憑借緊湊結構和卓越性能, 適用于高真空和超高真空應用.HiPace 渦輪分子泵采用混合或磁懸浮軸承系統, 確保低噪音和低振動運行. 此外, 渦輪分子泵 HiPace 還提供特殊型號, 包括針對氫氣等輕質氣體壓縮的版本, 以及配備耐腐蝕涂層的型號. 這些豐富的專用版本選擇, 使 Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 為涂層, 半導體制造和分析應用提供更優的解決方案.

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