KRi 射頻離子源 RFICP 140 優(yōu)勢
等離子放電腔: 通過射頻 RFICP 技術(shù)產(chǎn)生高密度等離子束, 1kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配; 無燈絲, 使用壽命更長
離子源結(jié)構(gòu): 模塊化組件易于維修; 內(nèi)部基座安裝, 優(yōu)化工藝速率和均勻性
離子束: 自對準(zhǔn)技術(shù), 可選聚焦, 準(zhǔn)直, 散射;
柵網(wǎng): 標(biāo)準(zhǔn)二層, 可選三層?xùn)啪W(wǎng).(覆蓋面積更大, 精密控制離子束流的能量, 方向, 保障輸出束流質(zhì)量的同時(shí)最小化能量損耗. 對污染的工藝環(huán)境, 具備一定的防護(hù)作用.)

KRi 射頻離子源 RFICP 140 基本性能
14cm 三層鉬柵網(wǎng),聚焦型, 工藝氣體 Ar, 距離約 30 cm


上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源適用于各類真空設(shè)備, 實(shí)現(xiàn)離子清洗 PC, 離子刻蝕 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光 IBF 等工藝.  在真空環(huán)境下, 通過使用美國 KRi 考夫曼離子源, 制造從微米到亞納米范圍的關(guān)鍵尺寸的結(jié)構(gòu), KRi 離子源具有原子級控制的材料和表面特征.


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

上海伯東同時(shí)提供各類真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
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伯東公司成立于1953 年，從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷售及相關(guān)服務(wù)工作。 重視以人為本的經(jīng)營理念、與您密切合作，專業(yè)服務(wù)及時(shí)周到，我們?yōu)槲磥淼募夹g(shù)提供支持，找到創(chuàng)新且節(jié)能的真空技術(shù)解決方案。

上海伯東 Pfeiffer 普發(fā)真空產(chǎn)品授權(quán)代理商，銷售維修普發(fā) Pfeiffer 真空產(chǎn)品20余年，協(xié)助客戶選型并提供完善的售后維修服務(wù)。擁有100%原裝進(jìn)口維修設(shè)備和備品配件，提供快速維修服務(wù)。

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