光學鍍膜機檢漏方法: 采用氦質(zhì)譜檢漏儀真空模式, 漏率設置為 1X10^-7 mbar l/s, 主要對真空室和連接管路進行檢漏, 通常真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些接口或部件之間的焊縫中發(fā)生, 當抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內(nèi)壓強降低, 外部與內(nèi)部的壓強差使氣體從壓強高的外部流向壓強低的真空室內(nèi), 形成真空度降低. 真空度的降低則會降低光學鏡片的合格率.

檢漏儀通過波紋管, 與鍍膜機背部預留的接口連接, 啟動檢漏儀, 設置好漏率, 在懷疑有漏的地方噴氦氣

氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 光學鍍膜機檢漏

氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 主要參數(shù)
進氣口: DN 25 ISO-KF
對氦氣 4He 的最小檢測漏率:
真空模式: 1X10-12 mbar l/s
吸槍模式: 5X10-9 mbar l/s
檢測模式: 真空模式 (負壓) 和吸槍模式 (正壓)
對氦氣的抽氣速度: 2.5 l/s
進氣口最大壓力: 25 mbar
前級泵抽速: 油泵 15 m3/h
重量: 56 kg

結合了 Pfeiffer 與 Adixen 兩家氦質(zhì)譜檢漏儀的技術優(yōu)勢, 上海伯東普發(fā) Pfeiffer 提供氦質(zhì)譜檢漏儀完整的產(chǎn)品線, 從便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀到檢漏模塊, 提供負壓檢漏 (真空法) 和正壓檢漏(吸槍法), 滿足各種應用. 氦質(zhì)譜檢漏儀與傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏對比, 在提供無損檢漏的同時可以檢測出更小的漏率 5E-13 Pa m3/s, 利用氦氣作為示蹤氣體定位, 定量漏點. 氦質(zhì)譜檢漏儀滿足單機檢漏, 也可集成在檢漏系統(tǒng)或 PLC. 上海伯東氦質(zhì)譜檢漏儀應用案例 >>

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