分子束外延系統需要高真空環境!
外延系統中的超高真空腔體對真空度要求及其高, 對真空腔體的密封性, 材料放氣率, 微量雜質氣體和水蒸氣比較敏感,德國分子泵可提供穩定的真空環境, 對晶格的生長起到良好的作用

上海伯東激光分子束外延 Lazer MBE 客戶案例一: 某真空設備商采購Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 400, HiPace 80 用于激光分子束外延系統, 系統功能
1. 主要針對金屬薄膜及材料器件的氧化物外延生長
2. 超高真空生長室, 直徑 12英寸.
3. 額定基壓：<1x10-6 Torr
4. 配有12個加熱泄流源.
5. 襯底加熱器加熱溫度 950℃
6. 可放置 6個1"的靶及 3個2"的靶
7. 質量流量計控制進入真空腔的流量, 量程 100sccm.
8. 線型進樣室實現全自動送片
普發分子泵 HiPace 400

分子束外延超高真空系統配置

	渦輪分子泵 HiPace 400 接口: DN 100 CF-F 極限真空: < 5X10-10 mbar 氮氣壓縮比: > 1X1011 抽速: 355 l/s
	渦輪分子泵 HiPace 80 接口: DN 63 CF-F 極限真空: < 5X10-10 mbar 氮氣壓縮比: > 1X1011 抽速: 67 l/s
	隔膜泵 MVP 020 口徑: DN 8+G1/8” 極限真空: 3 mbar 抽速: 1.2 m³/h

上海伯東銷售維修 Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 系列憑借緊湊結構和卓越性能, 適用于高真空和超高真空應用.HiPace 渦輪分子泵采用混合或磁懸浮軸承系統, 確保低噪音和低振動運行. 此外, 渦輪分子泵 HiPace 還提供特殊型號, 包括針對氫氣等輕質氣體壓縮的版本, 以及配備耐腐蝕涂層的型號. 這些豐富的專用版本選擇, 使 Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 為涂層, 半導體制造和分析應用提供更優的解決方案.

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