上海伯東脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例：某大學(xué)電信系脈沖激光沉積系統(tǒng)
1. 系統(tǒng)功能：主要用于 Mn 氧化物等復(fù)雜材料膜。
2. 渦輪分子泵真空度要求: 真空度< 1x10^-⁶pa
3. 樣品尺寸: 6英寸
4. 基片旋轉(zhuǎn), 加熱溫度：750℃
5. 膜生長控制模式: 鍍率 / 厚度 / 時(shí)間控制模式
分子泵應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

超高真空系統(tǒng)配置:

	渦輪分子泵 HiPace 400 接口: DN 100 CF-F 極限真空: < 5X10-10 mbar 氮?dú)鈮嚎s比: > 1X1011
	渦輪分子泵 HiPace 80 接口: DN 63 CF-F 極限真空: < 5X10-10 mbar 氮?dú)鈮嚎s比: > 1X1011
	隔膜泵 MVP 040 口徑: G1/4” 極限真空: ≦5 mbar 抽速: 2.3 m³/h

上海伯東銷售維修 Pfeiffer 普發(fā)渦輪分子泵 HiPace 系列憑借緊湊結(jié)構(gòu)和卓越性能, 適用于高真空和超高真空應(yīng)用.HiPace 渦輪分子泵采用混合或磁懸浮軸承系統(tǒng), 確保低噪音和低振動(dòng)運(yùn)行. 此外, 渦輪分子泵 HiPace 還提供特殊型號, 包括針對氫氣等輕質(zhì)氣體壓縮的版本, 以及配備耐腐蝕涂層的型號. 這些豐富的專用版本選擇, 使 Pfeiffer 普發(fā)渦輪分子泵 HiPace 為涂層, 半導(dǎo)體制造和分析應(yīng)用提供更優(yōu)的解決方案.

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Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 80 應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

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Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 80 應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

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