上海伯東美國 KRi 提供幾種類型的低能量高電流電子源. 電子源技術(shù)包含浸入式熱離子燈絲和非浸入式空心陰極發(fā)射器. 型號包含燈絲, LFN2000, LHC1000, MHC1000, SHC1000.
通常, 這些電子源可以作為陰極和/或中和器與等離子體或離子源結(jié)合使用. 它們在惰性和反應(yīng)性氣體環(huán)境中的操作是標準的. 電子源的發(fā)射電流是用電流反饋回路測量和控制. 由于這種精確可靠的電子源, KRi 電子源成功地用于靜電敏感應(yīng)用和介電材料環(huán)境.
KRi 電子源安裝在材料處理環(huán)境中, 作為中和器集成到離子束源上, 或者可以集成到等離子體放電的電離過程中. 在其他應(yīng)用中, 可以與磁控管陰極一起安裝以調(diào)整濺射操作.
KRi 中和器 Neutralizer Sources 功能
離子束中和: 射頻離子源, 考夫曼離子源, 霍爾離子源和陽極層源
等離子體產(chǎn)生中的電離: 射頻離子源, 考夫曼離子源, 霍爾離子源
在正偏置分析儀器中, 電中和
磁控濺射中增強的電子通量
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燈絲型中和器 Filament Neutralizer |
空心陰極中和器 Hollow Cathode Neutralizers |
RFN3000 |
LFN2000 |
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一般用于陰極和/或中和器與等離子體或離子源結(jié)合使用 |
空心陰極是 KRi 提供的幾種低能量和高電流電子源之一.通常用作離子和等離子體束受控生產(chǎn)中的中和劑或陰極 |
通常安裝在材料加工環(huán)境中, 并在離子和等離子束的受控生產(chǎn)中用作中和劑或陰極 |
安裝在離子源側(cè)面的非浸入式電子源. 它的工作范圍適用于低發(fā)射電流有利的應(yīng)用 |
