既可常規高通量測試,又可微區高性能測試
易操作式多功能選配附件
全自動樣品傳送停放
高性能大面積和微區 XPS 分析
快速精準深度剖析: 上海伯東 PHI GENESIS 500 可實現高性能的深度剖析. 聚焦 X 射線源, 高靈敏度探測器, 高性能氬離子槍和高效雙束中和系統可實現全自動深度剖析, 包括在同一個濺射刻蝕坑內進行多點同時分析

咨詢了解
或直接聯絡客服: 139-1883-7267

光電子能譜儀 PHI GENESIS 500

簡介

為電池, 半導體, 有機器件以及其他各領域提供全面解決方案
既可常規高通量測試,又可微區高性能測試
易操作式多功能選配附件
全自動樣品傳送停放
高性能大面積和微區 XPS 分析
快速精準深度剖析: 上海伯東 PHI GENESIS 500 可實現高性能的深度剖析. 聚焦 X 射線源, 高靈敏度探測器, 高性能氬離子槍和高效雙束中和系統可實現全自動深度剖析, 包括在同一個濺射刻蝕坑內進行多點同時分析

洽詢了解

技術規格

上海伯東代理 ULVAC-PHI 愛發科費恩斯全自動化多功能掃描微聚焦 X 射線光電子能譜儀 PHI GENESIS 500, 適用于電池, 半導體,光伏, 新能源, 有機器件, 納米顆粒, 催化劑, 金屬材料, 聚合物, 陶瓷等固體材料及器件領域.

光電子能譜儀 PHI GENESIS 500 特點: 為電池, 半導體, 有機器件以及其他各領域提供全面解決方案
既可常規高通量測試,又可微區高性能測試
易操作式多功能選配附件
全自動樣品傳送停放
高性能大面積和微區 XPS 分析
快速精準深度剖析: 上海伯東 PHI GENESIS 500 可實現高性能的深度剖析. 聚焦 X 射線源, 高靈敏度探測器, 高性能氬離子槍和高效雙束中和系統可實現全自動深度剖析, 包括在同一個濺射刻蝕坑內進行多點同時分析

光電子能譜儀 PHI GENESIS 500 應用場景
上海伯東代理的光電子能譜儀 XPS 適用于科學研究和高科技產業等領域, 包括材料科學, 能源科學, 半導體器件, 微電子器件以及表面處理和表面異常檢測等.

用于全固態電池, 半導體, 光伏, 催化劑等領域的先進功能材料都是復雜的多組分材料, 其研發依賴于化學結構到性能的不斷優化. 上海伯東代理全新表面分析儀器“PHI GENESIS” 全自動多功能掃描聚焦 X射線光電子能譜儀, 具有卓越性能, 高自動化和靈活的擴展能力, 可以滿足客戶的所有分析需求

電池
" LiPON/LiCoO? 橫截面的 pA-AES Li 化學成像”
Li 基材料例如LiPON, 對電子束輻照敏感.
PHI GENESIS 500 提供的高靈敏度能量分析器可以在低束流(300pA)下快速獲取AES 化學成像。

光電子能譜儀 PHI GENESIS 500
什么是光電子能譜儀 XPS

XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy),又稱 ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis),是利用 X射線入射樣品表面, 探測樣品表面出射的光電子,來獲得表面組成及化學態信息的一種表面分析方法. XPS 可對元素成分進行定性定量分析,同時通過微聚焦掃描技術可以實現微米級空間分辨能力.